Установка Osiris CHEMIXX 30pm Wet Process System

Установка CHEMIXX 30pm предназначена для мокрых процессов. Базовая комплектация оборудования используется как для отмывки пластин, так и фотошаблонов.Процессорная камера пригодна для обработки пластин до Ø 12“ (Ø 300мм) или подложек 9” x 9” (230 x 230мм).

 Установка Osiris CHEMIXX 30pm Wet Process System

Производитель: Osiris

В систему включены :

  • Отдельно стоящий шкаф из РР (полипропилен) со стальной армировкой
  • .
  • Процессорная камера пригодна для обработки пластин до Ø 12“ (Ø 300мм) или подложек 9” x 9” (230 x 230мм)
  • Дверь камеры с ручным управлением и блокировкой
  • Процессорная камера с отверстиями для потока
  • 7” цветной сенсорный дисплей
  • Интерфейс, Ethernet
  • Маркировка CE

  • Размер подложек: до Ø 12” (Ø 300мм) или 9” x 9” (230 x 230мм)
  • Скорость двигателя: до 10,000 об в мин*, шаг 1 об в мин
  • Ускорение двигателя:до 50,000 об в мин/с*, шаг 1 об в мин/с
  • Время процесса: от 1 до 999,9с, шаг 0.1с
  • *В зависимости от конструкции столика, веса подложки и нагрузки

  • Напряжение: 3x 230в AC/N/PE/50 - 60 гц, 16A
  • Осушенный сжатый воздух: 8 ±2 бар, трубка 10мм
  • Вакуум: -0.8 ±0,2 бар, трубка 10мм
  • Азот (опция): 4,0 ±0,2 бар, трубка 10мм
  • Деионизованная вода (опция) 3,0 +1,0 бар, трубка 3/8” с раструбом
  • Выхлоп процесса: 1x внешний диаметр (OD) 110мм, 50 – 180м3/ч
  • Выхлоп шкафа: 1x OD 110mm, 50 - 180m3/
  • Выхлоп из блока электроники: 2x OD 110мм, 50 – 180м3/ч
  • Размеры (Ш x Г x В) Около.: 1.200 x 600 x 1.300мм