Установка Osiris CHEMIXX 30pm Wet Process System
Установка CHEMIXX 30pm предназначена для мокрых процессов. Базовая комплектация оборудования используется как для отмывки пластин, так и фотошаблонов.Процессорная камера пригодна для обработки пластин до Ø 12“ (Ø 300мм) или подложек 9” x 9” (230 x 230мм).
Производитель: Osiris
В систему включены :
- Отдельно стоящий шкаф из РР (полипропилен) со стальной армировкой .
- Процессорная камера пригодна для обработки пластин до Ø 12“ (Ø 300мм) или подложек 9” x 9” (230 x 230мм)
- Дверь камеры с ручным управлением и блокировкой
- Процессорная камера с отверстиями для потока
- 7” цветной сенсорный дисплей
- Интерфейс, Ethernet
- Маркировка CE
- Размер подложек: до Ø 12” (Ø 300мм) или 9” x 9” (230 x 230мм)
- Скорость двигателя: до 10,000 об в мин*, шаг 1 об в мин
- Ускорение двигателя:до 50,000 об в мин/с*, шаг 1 об в мин/с
- Время процесса: от 1 до 999,9с, шаг 0.1с
- *В зависимости от конструкции столика, веса подложки и нагрузки
- Напряжение: 3x 230в AC/N/PE/50 - 60 гц, 16A
- Осушенный сжатый воздух: 8 ±2 бар, трубка 10мм
- Вакуум: -0.8 ±0,2 бар, трубка 10мм
- Азот (опция): 4,0 ±0,2 бар, трубка 10мм
- Деионизованная вода (опция) 3,0 +1,0 бар, трубка 3/8” с раструбом
- Выхлоп процесса: 1x внешний диаметр (OD) 110мм, 50 – 180м3/ч
- Выхлоп шкафа: 1x OD 110mm, 50 - 180m3/
- Выхлоп из блока электроники: 2x OD 110мм, 50 – 180м3/ч
- Размеры (Ш x Г x В) Около.: 1.200 x 600 x 1.300мм