Установка Osiris для нанесения, проявления и задубливания фоторезиста UNIXX S H22pm

UNIXX S H22pm- универсальная установка, оборудованная центрифугой и стойкой горячих плит для пластин до Ø 8’’ (200 мм) и подложек размером до 6’’ x 6’’ (150 x 150 мм).

 Установка Osiris для нанесения, проявления и задубливания фоторезиста UNIXX S H22pm

Производитель: Osiris

В систему включены :

  • Отдельно стоящий шкаф, в который интегрированы все производственные модули
  • Встроенная стойка горячих плит UNIX H B20 с подъёмными иглами для пластин размером от 2’’ до 8’’ на пневматическом приводе
  • В качестве терминала пользователя для каждой системы - цветной сенсорный дисплей
  • Интерфейс для сети Ethernet
  • Стандарт CE

  • Размер подложки: до Ø 8’’ (200 мм) или размер до 6’’ x 6’’ (150 x 150 мм)
  • Скорость мотора: до 10 000 об. в мин.*, шаг – 1 об. в мин
  • Ускорение мотора: до 4000 об. в сек. за сек, шаг -- 1 об. в сек за сек.
  • Время процесса: от 1 до 999,9 сек., шаг – 0,1 сек.
  • Материал процессной чаши: полипропилен
  • Размер подложки:до Ø 8’’ (200 мм) или размер до 6’’ x 6’’ (150 x 150 мм)
  • Диапазон температур: до 300 °C, шаг - 1°C
  • Точность температуры: ±1°C при 100°C
  • Подъемные иглы: Ø 2” (Ø 50 мм) до Ø 8” (Ø 200 мм) или 6” x 6” (150 x 150 мм)

  • Напряжение:1 x 208—230 вольт перем. тока/N/PE, /50-60 Гц, 16 A
  • Сжатый сухой воздух:8 ±2 бар, внешний диаметр трубы – 8 мм
  • Вакуум: -0.8 ± 0,2 бар, внешний диаметр трубы – 6 мм
  • Азот (дополнительно): 4,0 ± 0,2 бар, внешний диаметр трубы – 6 мм
  • Отвод выхлопа от процессного блока: 1 труба с внеш. диам. 110 мм, макс. 200 м3/ч
  • Отвод выхлопа от шкафа:1 труба с внеш. диам. 110 мм, макс. 200 м3/ч
  • Отвод выхлопа от электроники: 2 трубы с внеш. диам. 110 мм, макс. 200 м3/ч